常壓等離子體設備主要有三類：電暈放電等離子體設備、微波等離子體設備、多瓦等離子體設備。

1、電暈放電等離子裝置

電暈放電等離子體裝置是一種基于使用高頻電源產生等離子體的裝置。通過在電極之間施加高頻電壓來釋放等離子體，并通過與反應氣體的化學反應來對表面進行改性和清潔。一般來說，它的特點是溫度低，對樹脂和薄膜等聚合物材料有效。

2、微波等離子體裝置

微波等離子體裝置是利用微波產生等離子體的裝置。通過注入反應氣體并施加高頻電場，反應氣體吸收微波并產生等離子體。它可以產生高溫等離子體，用于金屬、陶瓷等的高分辨率表面改性和薄膜形成。

3.Dova等離子裝置

Dova Plasma 裝置是一種帶有水平排列的針和板作為電極的裝置。板上有反應氣體流過的小孔。通過在針和板之間施加高電壓，針尖處會產生電暈放電，從而產生等離子體。它可以產生低溫等離子體，可應用于細胞和生物組織的處理。