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技術文章/ article
什么是離子色譜法?離子色譜被定位為一種測量離子物質成分的液相色譜。該方法使用洗脫液作為流動相、離子交換劑作為固定相,在填充柱中分離樣品溶液中的離子物質。電導率檢測器通常用于檢測離子物種,但根據(jù)目的,也使用紫外-可見吸收檢測器和電化學檢測器以及液相色譜法。離子色譜法的應用范圍很廣,包括環(huán)境水和廢水的質量控制,以及食品領域的大氣環(huán)境測量和質量控制,因為它可以同時進行多組分分析,并且不易受環(huán)境影響。它是一種在許多領域中使用的分析方法。此外,測量的目標成分包括無機陽離子和陰離子、低級...
東亞電波TOA-DKK面板式pH/ORP控制器HBM-100B(pH)測量項目酸堿度氧化還原電位緊湊型DIN96尺寸面板安裝pH/ORP控制器自動判定電極特性的好壞顯示屏具有LED背光測量范圍pH計(HBM-100B):pH-1至pH15ORP計(HBM-102B):-2000至+2000mV優(yōu)勢品牌:CCS晰寫速SEN日森、EYE巖崎、REVOX萊寶克斯、SERIC索萊克SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI林時計、NPM日脈NS日本科學、DRY...
NiF過濾器株式會社---電鍍工藝整體解決方案我們將介紹日本過濾器產品的主要領域和解決各種電鍍工藝問題的產品使用示例。在要求高質量的電鍍工藝中,電鍍化學品和清洗水的凈化過濾至關重要。NipponFilter自成立以來一直致力于生產精密過濾機、過濾器外殼和各種濾芯,為每種應用提供最佳過濾效果。根據(jù)處理量,我們還提供一系列提高清洗水精度的純水生產設備,以及工藝過程中排放的電鍍廢水的回收設備。此外,我們還擁有膜分離設備,可以在最終排放前使用我們自己的精密過濾膜可靠地處理含重金屬廢水...
什么是半導體晶圓?半導體晶圓是一種非常薄的平板,通常在半導體制造過程中由單晶硅制成。硅片是極薄而小的板材,量產的硅片直徑一般為8英寸(200毫米)或12英寸(300毫米)。順便說一句,4英寸(100毫米)或更小的直徑專門用于研究目的。我們的薄膜成型設備基本上都是4英寸(100毫米)。半導體晶圓在現(xiàn)代電子設備和信息技術中發(fā)揮著至關重要的作用。這些薄盤狀基板是半導體器件制造的基礎,也是構建先進電子電路的基礎。為什么我們需要半導體晶圓半導體集成電路(IC)與晶圓密切相關。半導體集成...
什么是SiC半導體?SiC(碳化硅)是一種由硅和碳制成的化合物半導體,由于其優(yōu)異的性能在功率器件領域受到關注。Si是我們常見的半導體主流材料,但SiC有望成為性能超越Si的下一代半導體材料。與硅類似,SiC可以形成柵氧化膜(SiO2)和p型層。因此,可以直接應用在硅中開發(fā)的MOSFET(金屬氧化物半導體場效應晶體管)的結構。這加速了SiC功率器件的發(fā)展,并使其在短時間內實現(xiàn)商業(yè)化成為可能。SiC半導體的特性和優(yōu)點功率半導體的性能由多種物理特性的平衡決定,包括擊穿場強、遷移率和...
什么是阻抗匹配?阻抗匹配是指使電路中發(fā)送和接收信號的設備的電阻盡可能相似。簡單來說,就是為了使電力流通順暢而進行的調整工作。阻抗是一個電氣術語,指的是交流電路中的電阻分量。直流電路中的電阻稱為電阻(R),但在交流電路中,除了電阻之外,電感(線圈)和電容器也充當電阻。所有這些統(tǒng)稱為阻抗(Z)。在處理高頻信號時,阻抗匹配尤其重要。高頻信號即使對微小的變化也會做出敏感的反應,因此即使阻抗的微小偏差也會產生很大的影響。如果我們將阻抗匹配與水流進行比較......水流電流電流軟管電路軟...
支持半導體制造的超純水是什么?清洗工序約占半導體制造工序的30%,采用“超純水”(UPW),最大限度地去除雜質。超純水是通過最大限度地去除天然水中的雜質而得到凈化的水。自來水中含有溶解的各種物質,包括鈣、鎂等礦物質以及氯等消毒劑。這些雜質會嚴重損害半導體制造等精密工藝中的產品質量。因此,在半導體制造等要求高純度的領域,去除有機物、微粒、溶解氣體等,使離子更接近氫離子(H+)和氫氧根離子(OH-)。被使用。半導體制造涉及一系列復雜的工藝,需要極其先進的技術。超純水是該制造過程的...
什么是渦輪分子泵?渦輪分子泵的特點渦輪分子泵是真空泵的一種,由高速旋轉的轉子葉片和靜止的固定葉片組成。轉子葉片以每秒數(shù)萬次的驚人速度旋轉,通過使氣體分子飛走而形成真空。然而,這種高速旋轉會給處于大氣壓下的轉子葉片帶來很大的負載,從而造成損壞。因此,渦輪分子泵必須在預先已形成一定真空度的環(huán)境中使用,并與干泵或旋轉泵等輔助泵組合使用。優(yōu)點渦輪分子泵在半導體制造工藝中展示了其真正的價值。高速旋轉的刀片快速排出在硅片上形成精細電路圖案時產生的氣體,從而可以制造高質量的半導體器件。此外...
神港精機SHINKOSEIKI--ICP金屬蝕刻設備這是以納米壓印模具用ICP蝕刻系統(tǒng)“SERIO”的基本結構為基礎,針對金屬定制了腔室內部結構和氣體系統(tǒng)的最新蝕刻系統(tǒng)。兼容最新的半導體和MEMS工藝,我們實現(xiàn)了Al和Cr的納米級線寬蝕刻。與傳統(tǒng)的SERIO相比,它可以蝕刻廣泛的基材和應用,包括除Si晶圓之外的基材、藍寶石和GaAs等化合物半導體晶圓、光掩模用玻璃和石英。與8英寸晶圓兼容的裝載鎖定類型是標準配置,并且可以根據(jù)工藝進行定制,例如加熱臺和更大的腔室。與經過驗證的多...
SHINKOSEIKI神港--電弧絲式離子鍍裝置(AF-IP裝置)這是一種新型離子鍍設備,利用PVD實現(xiàn)了過去只能利用CVD才能實現(xiàn)商業(yè)化的膜類型(厚氧化膜、碳化膜等)?!半娀艚z型離子鍍裝置”通過蒸發(fā)粒子與蒸發(fā)源上的熱電子碰撞,有效地使蒸發(fā)粒子離子化。此外,通過引入的氣體與電離的蒸發(fā)顆粒之間的反應,可以形成各種致密且高粘附性的反應膜(氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜、碳氮化物膜)?,F(xiàn)在可以形成厚的氧化膜,這對于傳統(tǒng)的電弧放電離子鍍設備來說是困難的??梢允褂秒娀〗z型離子鍍設備形成...
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